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参杂混和气

　　 在半导体器件和集成电路制造中，将某些杂质入半导体材料内，使材料具有所需要的导电类型和一定的电阻率，以制造电阻、PN结、埋层等。
　　 掺杂工艺所用的气体称为掺杂气体。
　　 主要包括砷烷、磷烷、三氟化磷、五氟化磷、三氟化砷、五氟化砷、********和******等。通常将掺杂源与运载气体(如氩气和氮气)在源柜中混合，混合后气流连续注入扩散炉内并环绕晶片四周，在晶片表面沉积上掺杂剂，进而与硅反应生成掺杂金属而徙动进入硅。
　　 常用掺杂混合气列于 表13-掺杂混合气.jpg 。



     
 
 
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